Banca de DEFESA: LUMA DE VASCONCELOS MENEZES

Uma banca de DEFESA de MESTRADO foi cadastrada pelo programa.
DISCENTE: LUMA DE VASCONCELOS MENEZES
DATA : 25/10/2023
HORA: 11:00
LOCAL: Google Meet
TÍTULO:

Avaliação da estabilidade dimensional linear de diferentes resinas Pattern na esplintagem durante a moldagem de múltiplos implantes

 

PALAVRAS-CHAVES:

resinas acrílicas; implantes dentários; materiais para moldagem
odontológica; técnica de moldagem odontológica

PÁGINAS: 23
RESUMO:

As resinas acrílicas tipo Pattern são utilizadas na moldagem de transferência de
múltiplos implantes para que o modelo resultante reproduza com o máximo de
fidelidade a situação clínica. O presente estudo teve como objetivo avaliar e comparar
a estabilidade dimensional linear de diferentes resinas Pattern, sendo duas
autopolimerizáveis (Pattern Resin LS - GC, Pattern Bright - Kota) e uma
fotopolimerizável (Resinlay Pattern Photo Gel - TDV) através da técnica de moldagem
de múltiplos implantes. Foram confeccionados 30 modelos de gesso obtidos a partir
da moldagem de transferência de 4 implantes instalados numa matriz padrão. As
amostras foram divididas em grupos de acordo com o tipo de resina Pattern
utilizada na esplintagem dos transferentes de moldagem dos implantes: G1 (n=10)
- resina autopolimerizável Pattern Resin LS (GC Dental Industrial); G2 (n=10) -
resina autopolimerizável Pattern Bright (Kota Industrial); G3 (n=10) – resina
fotopolimerizável Resinlay Pattern Photo Gel (TDV Dental). Os transferentes de
moldagem foram parafusados sobre os implantes e em seguida esplintados com
uso do fio dental e acréscimo de um dos tipos de resina, seguindo as orientações
dos fabricantes. Os moldes foram vazados com gesso tipo IV Fujirock EP (GC
Dental Industrial), e os modelos analisados através da Máquina de Medição de
Coordenadas por Computador (CMM) (Crysta 574 / Mitutoyo, Japão) para
verificação da estabilidade dimensional das amostras. Os dados obtidos foram
avaliados através dos testes Mann-Whitney e Kruskal Wallis (p<0,05). Através da
CMM foi avaliado a distância entre os quatros implantes da matriz padrão,
nomeados por “origem”, referente a localização do implante 44 e pontos “P1”, “P2”
e “P3”, referente aos implantes 34, 32 e 42, respectivamente. A distância do
implante considerado origem aos pontos P1 (31,828), P2 (23,808) e P3 (12,954)
da matriz padrão apresentaram diferenças significantes (p<0,001) comparado aos
grupos analisados, sendo o G1 com resultado mais aproximado ao da matriz padrão,
seguido do grupo G2 e G3. Portanto, conclui-se que as três resinas Pattern
apresentaram alterações significativas de estabilidade dimensional quando
comparadas com a matriz padrão, onde a maior alteração foi apresentada pela
resina fotoativada Resinlay Pattern Photo Gel (TDV), enquanto a resina
autopolimerizável Pattern Resin LS (GC) apresentou melhor desempenho.

MEMBROS DA BANCA:
Externa ao Programa - 1134676 - CATIA MARIA FONSECA GUERRA - nullPresidente - 3496161 - JULIANA RAPOSO SOUTO MAIOR COSTA
Externo à Instituição - PAULO ROGERIO FERRETI BONAN
Externo ao Programa - 1134485 - TIAGO LEITE ROLIM - null